producta

Introductio Requisita potentiae pro Administratore Processuum Altae Perfunctionis (HPM) institutionem unius vel plurium Systematum Potentiae in complexo armariorum requirere potest. Haec necessitas a numero et generibus Modulorum Administratoris Processuum Altae Perfunctionis (HPMM), Processorum Input Output (IOP), et Coetuum Terminationum in Campo (FTA) in subsystemate pendet. In magno subsystemate Administratoris Processuum Altae Perfunctionis cum HPMM redundantibus et IOP redundantibus, fortasse expedit HPMM in armariis separatis instituere cum Systemate Potentiae in unoquoque armario. Hac configuratione, defectus potentiae in uno Systemate Potentiae non efficit defectum tam HPMM primariorum quam secundariorum necnon IOP. Onus potentiae et impetus initialis Aliae considerationes sunt onus non lineare et impetus initialis quem subcoetus Systematis Potentiae fonti AC applicat cum potentia applicatur. Purgatio fusibilis Purgatio fusibilis (3 A) in charta Nexus I/O Altae Perfunctionis in HPMM potest requirere currentem additicium quem unica Fons Potentiae non satis praebere potest; ergo, Systema Potentiae cum Modulis Fons Potentiae redundantibus commendatur. Requisita oneris Systematis Electrici Requisita oneris cuiusque Systematis Electrici examinanda sunt pro functione optionum quae in Gestore Processuum Altae Efficientiae institutae sunt. Hae postulationes in manuali Designationis Situs Systematis TPS tractantur. Considerationes Systematis Electrici Quodque Systema Electricum usque ad 20 A potentiae 24 Vdc praebere potest. Calculando requisitum currentis totalis, determinare potes quot Systemata Electrica requirantur. Si plus quam unum Systema Electricum requiritur, utile esse potest unumquemque Modulum Gestoris Processuum Altae Efficientiae (HPMM) Systemati Electrico separato coniungere. Etiam utile esse potest IOP "A" et IOP "B" paris redundantis Systematibus Electricis separatis coniungere. Antehac, Figura 2-25 typicum subsystema Gestoris Processuum Altae Efficientiae cum HPMM redundantibus in eodem armario illustravit. Figura 2-26 typicum magnum subsystema in complexo armariorum cum HPMM redundantibus in armariis separatis illustravit. Figura 2-25 complexum armariorum locale cum HPMM redundantibus in armariis separatis, et armarium remotum cum fasciculis chartae IOP, illustravit.